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史常忻. 集成电路中的物理问题讲座——第八讲 MOS物理基础[J]. 物理, 1985, 14(11).
引用本文: 史常忻. 集成电路中的物理问题讲座——第八讲 MOS物理基础[J]. 物理, 1985, 14(11).

集成电路中的物理问题讲座——第八讲 MOS物理基础

  • 摘要: 金属-氧化物-半导体(MOS)系统,它不仅作为金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)在超大规模集成电路中占有主导地位,而且也是半导体器件、材料和工艺方面的重要研究手段之一.故对它的研究日益发展、深入.本文仅从集成电路的角度出发,着重介绍与MOS系统电学特性有关的基础知识,而未涉及工艺制造问题.一、半导体表面空间电荷区1-3]表面势的存在,由于自由载流子数目偏离平衡值,将使表面层中形....

     

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