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王家祺, 解思深. 集成电路发展前景──下一步的技术进展[J]. 物理, 1993, 22(4).
引用本文: 王家祺, 解思深. 集成电路发展前景──下一步的技术进展[J]. 物理, 1993, 22(4).

集成电路发展前景──下一步的技术进展

  • 摘要: 人类不久将进入下一世纪.对于半导体工业来说,可以预计集成电路的发展将进入线宽小于0.1μm的图形这一范畴.那么,限制半导体工业继续进步的关键问题是什么呢?有没有现成的答案呢?我们可以将整个问题分解成三个方面,即科学上的限制、工艺的局限和经济上的考虑.第一个方面的问题是科学上的限制.更确切地说,就是在小于0.1μm线宽的图形中产生的物理上的限制.用现行的工艺制作的、尺寸如此之小的硅器件将产生很?...

     

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