玻璃态是一种无序结构的固体，组成单元可以是原子、分子、高分子、胶体粒子等等。尽管玻璃态材料在生活中很常见，有广泛的工业应用，但相关理论，尤其是液体到玻璃态转变的理论是物理学中争议最多的领域之一。溶液中的胶体粒子可以形成晶体、液体、玻璃等各种态。在光学显微镜下可以直接看到三维内部单个微米胶体粒子，通过图像处理还可以得到粒子的布朗运动轨迹，从而得到玻璃化转变过程中的微观动力学信息，这是原子分子玻璃系统中难以测量的。文章介绍了胶体作为模型系统对玻璃态的研究，主要包括传统的过冷液体到玻璃态的转变，另外还涉及气相、凝胶、多晶等其他无序或半无序态与玻璃态之间的过渡或转变。

光子集成是当今科技界的热门课题，提高集成度最为重要。SOI(Silicon- on-insulator)等材料在光子集成中显现出重要的地位，然而其损耗偏大，对集成度产生影响。因此，寻求新的波导材料极为重要。在这种要求下，Si₃N₄应运而生，成为人们研究的热点。Si₃N₄结构稳定，禁带宽度宽，E_g~5.1 eV，对紫外到红外整个波段是透明的。在这一光波段中的损耗低达0.045±0.04 dB/m，比SOI波导低3—4个数量级。Si₃N₄在1550 nm处的折射率~2，能够同Si和SiO₂一起构成高性能的介质波导结构，因此是很好的波导材料。Si₃N₄的热膨胀系数~2.35×10^-6 /℃，比Si小许多，在Si上生长Si₃N₄会产生较大的拉应力，因此容易产生龟裂，生长大面积薄膜或者较厚的Si₃N₄都十分困难。采用LPCVD或PECVD方法可以在低折射率的SiO₂上淀积Si₃N₄薄膜，形成Si₃N₄—SiO₂波导结构，减小了波导尺寸，提高了集成度。文章综述新型波导材料Si₃N₄的研究进展，并对其应用进行描述与展望。

现代微电子器件的发展，很大程度上依赖于工艺与材料的突破，其中特别是对磁性薄膜材料的基础研究，已经使自旋电子学领域有了革命性的进展。为了获得具有广泛应用前景且更高性能的电子学器件，对于新型的磁性薄膜材料的研究是非常重要的课题。