摘要: 离子溅射自１８５２年被Ｃｒｏｖｅ［１］研究以来，至今已发展成为一种用途颇广的技术．如清洁固体表面、溅射淀积薄膜、制作微电子线路、加工光学器件、侵蚀金相样品及制作透射电子显微镜薄箔样品等．后两者现已成为研究物质微观组织结构的手段之一．四十年代末，有人用溅射法侵蚀锻件的“流线”，五十年代初，溅射法已被用来制备透射电镜样品．１９６０年Ｐａｕｌｕｓ和Ｒｅｖｅｒｃｈｏｎ［２］用装有离子枪的装置，制备锰?...