摘要: 一、引言用显微镜研究晶体缺陷的发展可分为两个方面：其一是采用各种专用显微镜［１］，例如，根据泽尼克（Ｚｅｒｎｉｋｅ）原理［２］制造的位相衬度显微镜（它能把物体产生的位相衬度转换成可见的强度衬度），和根据诺玛斯基（Ｎｏｍａｒｓｋｉ）原理制造的微分干涉衬度显微镜［３］等．其二是在样品的制备和处理方面主要是寻找优秀的腐蚀剂．每种晶体都有一系列的腐蚀剂［４］，而且还在不断出现新型的腐蚀剂．用于半导体?...